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      Sb
    可用的形式
    条状 / 铸锭 / 块状 / 粉末 / 晶片
    应用领域

     

    应用领域

    99.999%锑块,锑颗粒,锑棒

    1,技术对接:锑与氯气反应生产三氯化锑SbCl3 – 精馏 – 通氢还原 – 锑块 – 氧气?;は轮屏?

    2,物理性质:

    原子量:121.760

    电负性:2.05

    密度:6.697 g/cm3 (25℃)

    熔点:630.63 ℃

    沸点:1587 ℃

    3,物理性状:粉,块,锭,棒,单晶体;

    4,用途:

    主要用于制备Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体InSb, BiSb, GaSb,高纯合金,电子致冷元件材料以及锗,硅单晶的掺杂剂;

     

    产品描述
    描述
    99.999%锑块,锑颗粒,锑棒
    1,技术对接:锑与氯气反应生产三氯化锑SbCl3 – 精馏 – 通氢还原 – 锑块 – 氧气?;は轮屏?
    2,检验:ICP-MS(5N锑的总杂质含量低于10ppm);
    3,服务:提供免费样品,提供MSDS及实用的防护措施,提供应用材料解决方案;
    4,物理性质:
    原子量:121.760
    电负性:2.05
    密度:6.697 g/cm3 (25℃)
    熔点:630.63 ℃
    沸点:1587 ℃
    5,规格:
    化学纯度:
    高纯锑:Sb-05 纯度99.999%以上,银,砷,铋,镉,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,硫,锌杂质总含量小于10ppm;
    超纯锑:Sb-06 纯度99.9999%以上,银,砷,铋,镉,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,锌杂质总含量小于1ppm;
    超高纯锑:Sb-07 纯度99.99999%以上,银,砷,铋,镉,铜,铁,镁,锰,硅,镍,铅,锌杂质总含量小于0.1ppm。
    6,物理性状:粉,块,锭,棒,单晶体;
    7,用途:
    主要用于制备Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体InSb, BiSb, GaSb,高纯合金,电子致冷元件材料以及锗,硅单晶的掺杂剂;
    8,包装:三层真空包装或充氩气?;?;
    其他材料
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